PVD的技术特点 PVD具有什么特点

PVD的技术特点如下：　　　　PVD（物理气相沉积）技术，为真空涂层开创了一个充满灿烂前景的新天地，之后在短短的二、三十年间PVD涂层技术得到迅猛发展，究其原因，